
ESNtech Sigma
Шлюзовая загрузка и обработка партии без разгерметизации рабочей камеры.
- До 4 — магнетронов
- 420 × 420 мм — зона осаждения
Тонкоплёночные технологии
Нанесение функциональных и оптических покрытий, подготовка поверхности и ионно-лучевое травление. Выберите платформу по материалу, геометрии изделия и технологическому маршруту.
ESNtech — разработка и производство установок
Криосистемы — подбор, поставка, интеграция и сопровождение

От серийного магнетронного напыления до прецизионных оптических покрытий. Сопоставьте метод, геометрию загрузки и средства контроля.

Шлюзовая загрузка и обработка партии без разгерметизации рабочей камеры.

Источники внутри цилиндра из подложек и автоматический переворот для двухстороннего нанесения.

Направленная обработка плёнок линейными ионными источниками с охлаждением подложек.

Электронно-лучевое и резистивное испарение с ионно-плазменным ассистированием.

Платформа с выбором метода нанесения и переворотом держателей в одном вакуумном цикле.

Алмазоподобные углеродные покрытия для защиты и просветления инфракрасной оптики.
| Установка | Задача | Метод | Ориентир для выбора |
|---|---|---|---|
| ESNtech Sigma | Тонкие плёнки для серийного производства | Магнетронное напыление со шлюзовой загрузкой | До 4 магнетронов; зона 420 × 420 мм; подложки толщиной до 2 мм. |
| ESNtech Ypsilon | Серийное нанесение с автоматическим переворотом | Магнетронное напыление | 76 подложек за цикл и позиция для свидетеля; нагрев до 350 °C. |
| ESNtech Eta | Направленное травление тонких плёнок | Ионно-лучевое травление | До 3 линейных источников; 48 подложек 60 × 48 мм за цикл. |
| ESNtech Lambda | Прецизионные оптические покрытия | Электронно-лучевое и резистивное испарение | ±1 % на планетарном держателе; кварцевый контроль на 6 сенсоров. |
| ESNtech Omicron | Универсальная платформа тонкоплёночного осаждения | До трёх методов нанесения | Испарение или распыление; купол, диск либо съёмные держатели. |
| ESNtech Delta PECVD | DLC-покрытия для инфракрасной оптики | Плазмохимическое осаждение DLC | Ge и Si; изделия до Ø300 мм; скорость нанесения 1,5–2 мкм/ч. |
Количество изделий за цикл сравнивают вместе с размером подложки, рецептом, нагревом и охлаждением. Значения для разных методов и изделий не являются прямым рейтингом производительности.
Укажите материал подложки, наносимые слои, толщины и требования к оптическим либо электрическим свойствам. Для травления нужны материал удаляемого слоя, маска и глубина обработки.
Размер, форма и число изделий определяют держатель и загрузку. Отдельно укажите плоские или выпуклые поверхности, допустимую толщину изделий и необходимость обработки двух сторон.
Согласуйте очистку, нагрев, допустимую температуру и охлаждение. Эти этапы входят в маршрут обработки и влияют на длительность цикла.
Задайте допуски и методику приёмки покрытия. Кварцевый, оптический и резистивный контроль решают разные задачи; состав системы определяется процессом.
Криосистемы сопровождают подбор и поставку. ESNtech разрабатывает и производит технологическое оборудование; конкретный объём работ фиксируется для проекта.
Обсуждаем изделие, структуру покрытия или травления, допуски и объём партии.
Определяем источники, держатели, откачку, контроль, автоматику и состав документации.
Согласуем требования к площадке, состав поставки, монтаж и пусконаладочные работы.
Обсуждаем обучение персонала, обслуживание и дальнейшую технологическую поддержку.
Обе платформы используют магнетронное напыление. Sigma выделяется шлюзовой загрузкой и зоной осаждения 420 × 420 мм. В Ypsilon источники находятся внутри цилиндра из подложек, предусмотрены автоматический переворот и загрузка 76 подложек за цикл с отдельной позицией для свидетеля.
Lambda ориентирована на прецизионные оптические покрытия с кварцевым и спектральным контролем, купольным и планетарным держателями. Omicron — конфигурируемая серия: метод нанесения и сочетание источников выбираются под задачу.
Delta PECVD предназначена для углеродных алмазоподобных покрытий на германии и кремнии. Для подбора укажите форму и диаметр деталей, спектральный диапазон, требования к пропусканию, отражению и стойкости.
ESNtech разрабатывает оборудование по техническому заданию. Направьте в Криосистемы описание изделия, требуемого покрытия или травления и параметры партии — обсудим конфигурацию и условия поставки.
Пришлите техническое задание или описание изделия и технологической задачи. Поможем определить технологию, состав оборудования и требования к поставке, запуску и сопровождению.