Перейти к содержимому

Магнетронное напыление

ESNtech Sigma — установка магнетронного напыления

Магнетронная установка с предварительной ионно-лучевой очисткой и нагревом подложек. Шлюзовая загрузка позволяет загружать изделия без разгерметизации рабочей камеры на каждый цикл.

Сравнить установки ESNtech

Производитель — ESNtech
Подбор, поставка и сопровождение — Криосистемы

Вакуумная технологическая установка ESNtech Sigma
ESNtech Sigma · общий вид установки
До 4магнетронов
420 × 420 ммзона осаждения
До 350 °Cнагрев подложек

Тонкие плёнки для серийного производства

Sigma предназначена для серийного и мелкосерийного нанесения проводящих и функциональных слоёв. Предварительная ионно-лучевая очистка и нагрев включаются в технологический маршрут до напыления. Изделия располагаются близко к вертикали.

Шлюз отделяет загрузку от рабочей камеры: при смене партии её не требуется разгерметизировать. Управление ведётся с сенсорной панели по рецептам, с протоколами процессов и журналом аварий. Безмасляную откачку обеспечивают спиральный и турбомолекулярный насосы.

Как организован процесс

Шлюзовая загрузка

Рабочая камера сохраняется под вакуумом при загрузке партии.

Подготовка поверхности

Ионно-лучевая очистка и нагрев подложек до 350 °C.

Автоматизация

Сенсорная панель, технологические рецепты, протоколы процессов и журнал аварий.

Разные геометрии изделий

Круглые, квадратные и прямоугольные подложки в пределах рабочей зоны.

Чистые помещения

Конструкция установки предназначена для работы в чистых помещениях.

Характеристики установки Sigma

Технологические параметры и состав систем
ТехнологияМагнетронное напыление металлов, оксидов (реактивный процесс), резистивных сплавов, полупроводников с ионно-лучевой очисткой
Размеры подложекДопускаются различные конфигурации расположения разных подложек толщиной до 2 мм: диаметром 76, 100, 150, 200, 300, 400 мм; также наборы квадратных и прямоугольных изделий внутри зоны 420х420 мм
Нагрев подложекдо 350 °C
Предельный вакуум в рабочей камере≤ 1×10⁻⁴ Па
Вакуумная системаБезмасляная (спиральный + турбомолекулярный насосы)
Система управленияВстроенная сенсорная панель, управление по рецептам
Габариты (Д×Ш×В)не более 2800×1400×2200 мм
Компонентная базаGencoa, Pfeiffer, SMC, WAGO и др.
Количество магнетроновдо 4-х
Система контроля напыленияПо времени, кварцевая система контроля толщины (Inficon), система контроля по свидетелю сопротивления
Загрузка подложекРучная, шлюзовая
Нанесение покрытияОдностороннее; опционально двухстороннее с автоматическим переворотом
Примеры материалов мишенейМеталлы, полупроводники, резистивные сплавы
Производительность (пример)48 подложек 60 × 48 мм за цикл; 4–5 циклов с нагревом и охлаждением за 8-часовую смену
Зона осаждения420 × 420 мм

Состав оборудования и рабочие режимы согласуются под изделие и процесс. Производительность зависит от загрузки, рецепта и межоперационного обслуживания.

Исполнение под технологическую задачу

  • Двухстороннее нанесение с автоматическим переворотом — опционально.
  • Возможно увеличение зоны осаждения при снижении требований к равномерности.

Что указать в запросе

Для предварительного подбора рекомендуем указать:

  • Материалы мишеней и подложек
  • Размеры, толщина изделий и размещение партии
  • Требования к нагреву, контролю покрытия и одно-/двухстороннему нанесению
  • Требования к автоматизации, документации, монтажу и пусконаладке

Обсудим конфигурацию Sigma

Пришлите техническое задание или описание изделия и технологической задачи. Поможем определить технологию, состав оборудования и требования к поставке, запуску и сопровождению.

Мы используем файлы Cookie для улучшения работы, персонализации и повышения удобства пользования нашим сайтом. Продолжая посещать сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов Cookie.