Цилиндрическая компоновка
Источники внутри цилиндра из подложек; доступны планарные или цилиндрические магнетроны.
Магнетронное напыление
ESNtech Ypsilon — магнетронное напыление тонких плёнок
Вакуумная установка для серийного и мелкосерийного магнетронного напыления. Источники распыления располагаются внутри цилиндра, образуемого подложками.
Производитель — ESNtech
Подбор, поставка и сопровождение — Криосистемы
76 подложекза цикл и одна позиция для свидетеля
До 350 °Cнагрев подложек
До 3магнетронов
Серийное нанесение с автоматическим переворотом
Ypsilon предназначена для металлических и диэлектрических покрытий в нейтральных и реактивных процессах. Обрабатываются подложки из ситалла, керамики и кремния. Среди материалов покрытий — Al, Cu, Ni, Ti, V, Ta и сплавы.
В цилиндрической компоновке источники распыления находятся внутри пространства, образуемого подложками. Планарные или цилиндрические магнетроны выбираются под процесс. Предусмотрены безмасляная откачка, защита от продуктов распыления и модульная конструкция для обслуживания.
Как организован процесс
Двухстороннее нанесение
Автоматический переворот подложек в процессе.
Очистка и нагрев
Предварительная ионно-лучевая очистка; нагрев до 350 °C.
Рецепты и логи
Автоматизированное управление по технологическим рецептам.
Характеристики установки Ypsilon
| Технология | Магнетронное напыление; планарные или цилиндрические магнетроны (до 3 шт.), классические кольцевые испарители |
|---|---|
| Размер подложки | 60 × 48 мм (толщина 0,5 / 1 мм) и другие |
| Производительность | 76 подложек за цикл и одна позиция для свидетеля |
| Материалы покрытий | Металлические и диэлектрические: V, Cu, Ni, сплавы |
| Материалы подложек | Ситалл, керамика, кремний |
| Нагрев подложек | до 350 °C (ИК-нагреватели или ТЭН) |
| Предельный вакуум | не хуже 5×10⁻⁷ мм рт. ст. |
| Неравномерность покрытия | менее ± 5 % |
| Подготовка подложек | Ионно-лучевая очистка, нагрев |
| Нанесение | Одностороннее или двухстороннее с автоматическим переворотом |
| Вакуумная система | Безмасляная |
| Исполнение | Моноблочное |
| Компонентная база | Gencoa, Pfeiffer, SMC, WAGO и др. |
Состав оборудования и рабочие режимы согласуются под изделие и процесс. Производительность зависит от загрузки, рецепта и межоперационного обслуживания.
Исполнение под технологическую задачу
- ИК-нагреватели или ТЭН — выбор исполнения.
- Планарные или цилиндрические магнетроны; конкретный состав источников согласуется.
Компоновка Ypsilon
Источники и подложкодержатель
Подложки образуют цилиндр вокруг источников распыления. Двухстороннее нанесение выполняется с автоматическим переворотом. Тип магнетронов, нагревателей и состав источников выбираются для конкретного покрытия.
Что указать в запросе
Для предварительного подбора рекомендуем указать:
- Материалы плёнок и подложек
- Размер, толщина и требуемое число изделий в партии
- Одно- или двухстороннее нанесение, температурный режим и контроль покрытия
- Требования к автоматизации, документации, монтажу и пусконаладке
Обсудим конфигурацию Ypsilon
Пришлите техническое задание или описание изделия и технологической задачи. Поможем определить технологию, состав оборудования и требования к поставке, запуску и сопровождению.
Актуальные предложения и ключевые направления
