Оптическая и молекулярная спектроскопия
УФ-Вид, ИК-Фурье, рамановские и смежные спектроскопические методы исследования материалов и образцов.
Оборудование для науки и лабораторий
Оборудование для анализа состава и структуры материалов, спектроскопии, микроскопии, исследования поверхности и физических свойств, низкотемпературных экспериментов, подготовки образцов, формирования тонких плёнок и микро- и наноструктур. Выберите направление или передайте техническое задание для подбора оборудования под Вашу исследовательскую задачу.
Основные направления
Методы для определения элементного и молекулярного состава, идентификации соединений, исследования оптических свойств и разделения многокомпонентных смесей.
УФ-Вид, ИК-Фурье, рамановские и смежные спектроскопические методы исследования материалов и образцов.
Атомно-абсорбционные и эмиссионные методы, включая AAS и ICP-OES, для определения элементного состава образцов.
Системы TOF-MS, квадрупольные ICP-MS, GC-MS и другие конфигурации для качественного и количественного анализа.
Газовая и жидкостная хроматография для разделения компонентов смесей и последующего качественного или количественного анализа.
Спектрометры ядерного магнитного резонанса для исследования молекулярной структуры и состава веществ.
Если метод ещё не определён, подбор можно начать с объекта исследования, требуемого предела обнаружения и типа образца.
Структура и поверхность
Оборудование для исследования кристаллической и электронной структуры, элементного состава, химического состояния и геометрии поверхности материалов.
Дифракционные, спектроскопические и другие рентгеновские методы для структурного и материаловедческого анализа.
Полусферические анализаторы и комплексные системы для XPS, ARPES и связанных поверхностно-аналитических методов.
ER-LEED, Auger, XPS, TOF-SIMS и другие методы исследования поверхностных слоёв и состава материалов.
Контактные и оптические методы измерения рельефа, толщины и характеристик поверхности, включая профилометрию и эллипсометрию.
Визуализация и морфология
Инструменты для наблюдения поверхности, контроля образцов и исследования микро- и наноструктуры материалов.
Инспекционные, конфокальные и 3D-микроскопические системы для визуального контроля и исследования образцов.
Сканирующие и просвечивающие электронные микроскопы, двухколонные системы, аналитические модули и оборудование пробоподготовки.
Методы AFM и другие измерительные подходы для локального исследования рельефа и свойств поверхности.
Физический эксперимент
Системы для измерения магнитных свойств и проведения экспериментов при контролируемых низких температурах.
Вибрационные магнитометры, системы Керр-микроскопии и комплексные измерительные решения для исследования магнитных свойств материалов.
Криостатные системы для низкотемпературных экспериментов и исследования физических свойств образцов.
Для многопараметрических экспериментов состав установки определяется совместно: температура, магнитное поле, вакуум, геометрия образца и измерительные каналы.
Подготовка и формирование структур
Оборудование для литографии, осаждения, травления и обработки поверхности в исследовательских и технологических задачах.
Лазерная, электронно-лучевая и наноимпринтная литография для формирования микро- и наноструктур.
Установки магнетронного, ионного, термического, электронно-лучевого и газофазного осаждения, а также плазменной обработки.
CVD, PVD, ионная имплантация, эпитаксия, очистка поверхности и плазменное травление представлены также в технологическом каталоге.
Смежные направления
Термические, климатические и вакуумные системы, которые используются при подготовке образцов, проведении экспериментов и создании контролируемых условий.
Термическая обработка материалов в вакууме с различной компоновкой и способом загрузки.
Системы для лабораторной и технологической термообработки материалов в заданных температурных режимах.
Оборудование для воспроизведения заданных температурных и влажностных условий при исследованиях и испытаниях.
Если требуется не отдельный прибор, а комплексная система, подбор ведётся с учётом вакуума, температуры, состава измерительных модулей, механических интерфейсов и существующей инфраструктуры.
Подбор по задаче
Если класс оборудования ещё не определён, начните с измеряемого параметра, типа образца и условий эксперимента.
Атомная спектрометрия, ICP-MS, XRF и другие методы элементного анализа.
УФ-Вид, ИК-Фурье, рамановская, масс- и ЯМР-спектрометрия.
XPS, ARPES, Auger, TOF-SIMS, ER-LEED и методы метрологии поверхности.
Оптическая, конфокальная, 3D- и электронная микроскопия.
Магнитометрия, низкотемпературные измерения и комплексные экспериментальные системы.
Литография, осаждение тонких плёнок, травление и обработка поверхности.
Опишите объект исследования, требуемый метод или измеряемые параметры, условия эксперимента и ограничения по интеграции. Подготовим конфигурацию оборудования и индивидуальное коммерческое предложение с учётом Ваших технических требований.