Каталог Cryosystems

Литография

Лазерная, электронно-лучевая и наноимпринтная литография для формирования микро- и наноструктур. Сравните принцип экспонирования и требования к подложкам.

Выбрать оборудование

Оборудование по задаче

Позиций и подкатегорий: 2

Лазерная литография

Лазерные литографы Litho MaskLess и MT UV Litho для записи рисунка на подложках. Сравните оптическую систему, поле записи и точность позиционирования.

Открыть раздел →Позиций и подкатегорий: 3

Наноимпринтная литография

Литографы NIL-100 и NIL-150/200, шаблоны и расходные материалы для переноса рисунка методом наноимпринта.

Открыть раздел →Позиций и подкатегорий: 1

Электронно-лучевая литография

Система EBL-100FS для прямой электронно-лучевой записи: устройство, режимы работы и технические параметры.

Открыть раздел →

Другие разделы и оборудование

Подобрать оборудование

Укажите материал и размер подложки, минимальный элемент рисунка, резист и требования к совмещению слоёв.

Единая скидка 20% на все семь позиций предложения
Сухая форвакуумная откачка без подачи масла в рабочую камеру
Подбор исполнения и коммерческого предложения под параметры системы