Выставки и конференции · Анонс Логотип выставки «Электроника России»

ГК «Криосистемы» на выставке «Электроника России — 2026»

24–26 ноября 2026 года ГК «Криосистемы» примет участие в выставке-форуме «Электроника России» в МВЦ «Крокус Экспо». Представим решения для нанесения тонких плёнок и оборудование для сектора микроэлектроники. Приглашаем инженеров, технологов, разработчиков и руководителей лабораторий обсудить выбор установок, создание исследовательских комплексов и модернизацию действующего оборудования.

Когда24–26 ноября 2026

ГдеМосква, МВЦ «Крокус Экспо»
Павильон 2, зал 11

О чём поговоримНапыление и тонкие плёнки · Оборудование для микроэлектроники

Место встречи разработчиков, производителей и инженеров

«Электроника России» объединяет электронные компоненты, оборудование и материалы для их производства, вычислительную технику, средства связи, промышленную автоматизацию и другие направления электронной отрасли. Один из фокусных разделов выставки 2026 года — «ЭКБ России», посвящённый электронной компонентной базе.

Для ГК «Криосистемы» участие в выставке — возможность предметно обсудить технологическую основу исследований и производства: как получить требуемый слой, организовать вакуумную и газовую среду, управлять температурой подложки, объединить нанесение покрытия с анализом и обеспечить работу оборудования на площадке заказчика. Эти вопросы связывают наши два направления экспозиции — установки напыления и оборудование для микроэлектроники.

На встречу можно прийти с новой исследовательской задачей, техническим заданием на установку или вопросом о модернизации существующей системы. Мы рассматриваем задачу на уровне процесса, компонентов и инфраструктуры, чтобы обсуждение конкретной модели опиралось на требования к будущему эксперименту или технологической операции.

Установки напыления и тонкие плёнки: от выбора метода к конфигурации системы

Выбор установки начинается с материала подложки и назначения покрытия. Нужно определить, какой слой требуется получить, какие толщина и равномерность заданы, допустим ли нагрев, как будет организована загрузка и какими средствами предстоит контролировать процесс. Затем выбираются метод нанесения, источники материала, вакуумная схема, газовая часть и управление.

Физическое осаждение — PVD

В направлении PVD представлены термическое и электронно-лучевое испарение, магнетронное и ионно-лучевое распыление, а также лазерная абляция. Разные способы переноса материала требуют своей компоновки источников, подложкодержателя и вакуумного тракта.

На выставке обсудим подбор метода под материал покрытия и подложки, геометрию загрузки, температурный режим и требования к толщине слоя. Отдельная тема — развитие лабораторной установки: добавление источников, изменение оснастки и согласование новых узлов с действующей системой.

Осаждение покрытий в вакууме: направление PVD

Химическое осаждение — CVD и MOCVD

В CVD слой формируется в результате химических реакций газообразных компонентов. В MOCVD применяются металлоорганические прекурсоры. Для таких процессов важны устройство реактора, подача газов и прекурсоров, давление, нагрев и согласованная работа управляющих узлов.

Наши проекты включают системы для синтеза углеродных структур и установку для экспериментального осаждения дисульфида молибдена MoS₂. Этот опыт позволяет обсуждать конфигурацию газовой и температурной частей применительно к конкретной исследовательской задаче.

Технологическое оборудование и газофазное осаждение

Конфигурация определяется процессом. Метод нанесения, вакуумная система, газы, нагрев и измерения должны рассматриваться совместно. Требуемые характеристики слоя и режимы работы становятся исходными данными для подбора или проектирования установки.

Оборудование для микроэлектроники: процесс, среда и интеграция

Задачи микроэлектроники и исследования материалов объединяют несколько взаимосвязанных операций: подготовку поверхности, осаждение, травление, перемещение образца и анализ полученного слоя. В каталоге ГК «Криосистемы» представлены направления газофазного осаждения и эпитаксии CVD, плазменного травления RIE и ICP-RIE, очистки поверхности и ионной имплантации.

При подборе оборудования важно заранее определить роль каждой установки в технологической цепочке. Для отдельного эксперимента может быть достаточно автономного реактора. Для последовательной обработки и анализа требуется проработать передачу образцов, совместимость камер и режимов, газовую инфраструктуру и ограничения действующей лаборатории. Пример такой работы — интеграция PLD, ALD и SIMS в общий исследовательский комплекс.

Как связаны части технологического комплекса
Нанесение слоя	Источник материала или реактор и подложкодержатель определяют компоновку технологической части. Метод осаждения задаёт требования к вакууму, газоподаче и нагреву.
Подготовка и травление	Модули очистки поверхности и травления рассматриваются в связи с материалом образца и последующими операциями обработки.
Вакуум и газовая среда	Насосы, арматура, газовые линии и датчики объединяются в систему поддержания и контроля заданных режимов процесса.
Передача и анализ образца	Шлюз и транспортные узлы связывают технологические и аналитические камеры. Их согласование — отдельная инженерная задача, как в проекте PLD–ALD–SIMS.

Состав решения зависит от технического задания: это может быть подбор компонентов, поставка установки, разработка специальных узлов или объединение оборудования в комплекс. Наши проекты показывают разные роли компании — собственную разработку, сборку, интеграцию и запуск оборудования.

Пять инженерных проектов: от осаждения материала до испытаний аппаратуры

За каждым проектом стоит конкретная задача и свой объём инженерной работы. Эти примеры помогают понять, какие вопросы можно обсудить с нашей командой: реактор и газовую схему, высоковакуумную систему, передачу образцов или испытательный комплекс.

01 · РАЗРАБОТКА И СБОРКА

MOCVD-установка для осаждения MoS₂

Общий вид MOCVD-установки для осаждения MoS₂ из портфолио Криосистем

В ГК «Криосистемы» разработана и собрана специализированная установка для экспериментального осаждения дисульфида молибдена. В состав системы вошли семь газовых линий с индивидуальным контролем потока, испарители-барботеры, вакуумный тракт, высокочастотный нагрев и автоматизированное перемещение подложкодержателя.

Конфигурация рассчитана на одну подложку диаметром до 50 мм и нагрев до 1100 °C. В проекте выполнены инженерные расчёты, подготовка конструкторской документации, изготовление, сборка и комплексная проверка. После настройки установка подготовлена к отгрузке; пусконаладочные работы и эксплуатационные испытания предусмотрены на площадке заказчика.

Подробнее об устройстве и этапах проекта MOCVD

02 · СОБСТВЕННАЯ УСТАНОВКА

CVDLab 60_1100 для синтеза углеродных структур

Установка CVDLab 60_1100 полностью разработана и собрана в компании «Криосистемы» для синтеза нанотрубок и других углеродных структур из газовой фазы. Она объединяет кварцевый реактор, пять газовых линий с индивидуальным контролем потока, управление вакуумом и давлением и двухзонную печь.

Проект показывает, как исследовательская задача определяет устройство установки: газовые потоки, температурные зоны и вакуумная часть включены в одну согласованную систему. Рабочая температура процесса — до 1100 °C. Подобный разбор полезен при подготовке технического задания на собственный реактор и при обсуждении возможностей экспериментальной лаборатории.

CVDLab 60_1100 и другие работы на промышленных установках

03 · ВАКУУМНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ

Сверхвысоковакуумная установка напыления и травления

В портфолио ГК «Криосистемы» представлена сверхвысоковакуумная установка для напыления и травления тонких плёнок. На странице проекта можно рассмотреть её компоновку и конструктивные узлы.

Этот пример задаёт отдельную тему для встречи: как согласовать камеру, источники нанесения покрытия, средства травления, откачку и измерения в рамках одной установки. При обсуждении аналогичной задачи важно определить последовательность операций, требования к вакуумной среде и подготовке образца, а также ограничения по размещению оборудования.

Сверхвысоковакуумная установка: страница проекта

04 · ИНТЕГРАЦИЯ КОМПЛЕКСА

PLD, ALD и SIMS: нанесение слоя и последующий анализ

В одном из исследовательских проектов объединены установки импульсного лазерного осаждения (PLD), атомно-слоевого осаждения (ALD) и вторично-ионной масс-спектрометрии (SIMS). После загрузки через шлюз образец можно перемещать в ростовую камеру, а полученный слой исследовать методом SIMS.

При интеграции решались задачи предотвращения загрязнения аналитической системы во время транзита образца и исследования слоёв, полученных методом ALD. Здесь инженерная работа связана с взаимодействием нескольких установок и маршрутом образца между технологической и аналитической частями комплекса.

Интеграция установок для высокотехнологичных исследований

05 · ИСПЫТАНИЯ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ

Термовакуумная установка КРИОС-ТВУ

Отдельная часть нашей инженерной практики — испытания готовой аппаратуры. Для блоков радиоэлектронного оборудования создана термовакуумная установка КРИОС-ТВУ-1.5-16.1000.905W с камерой, термостатируемым столом, криогенной и безмасляной откачкой, температурными измерениями и автоматизированным управлением.

Температура термостола регулируется от −70 до +100 °C, его размер — 700 × 1000 мм, максимальная масса исследуемого изделия — 75 кг. Описанный объём работ включает изготовление узлов, обвязку, отладку алгоритмов, приёмо-сдаточные испытания и инструктаж. Кейс дополняет тему технологических процессов компетенцией проверки радиоэлектронной аппаратуры в заданных условиях.

Термовакуумная установка: характеристики и выполненные работы

Как техническая задача превращается в инженерное решение

ГК «Криосистемы» работает с оборудованием на разных стадиях проекта: от подбора компонентов и разработки специальных систем до интеграции, монтажа, пусконаладки и сервисного сопровождения. На выставке удобно определить начальную точку — какие требования уже известны, какие параметры предстоит уточнить и какой объём работ необходим.

Исходные данные
Материал, технологическая операция, образец, требуемые режимы и ограничения площадки.
Конфигурация
Метод обработки, камера или реактор, вакуум, газы, нагрев, измерения и управление.
Реализация
Согласованный объём проектирования, изготовления, поставки и интеграции оборудования.
Запуск и сопровождение
Монтаж, пусконаладочные работы, проверка функций, обучение и сервис по составу проекта.

Если оборудование уже эксплуатируется, обсуждение можно начать со схемы установки и описания задачи модернизации. Это поможет определить, какие узлы требуют изменения и как новые компоненты должны взаимодействовать с существующей вакуумной, газовой и управляющей частью.

Что подготовить для встречи с нашей командой

Для первого разговора достаточно кратко описать задачу. Если техническое задание уже есть, полезно включить в него сведения, от которых зависит конфигурация установки:

Технологический процесс

Материал и размер подложки, число образцов в загрузке.
Материал и назначение покрытия; требования к толщине и равномерности.
Предпочтительный метод осаждения или операция травления.
Рабочее давление, температурный режим, газы и прекурсоры.

Площадка и эксплуатация

Требуемая производительность и последовательность операций.
Состав действующего оборудования и схема передачи образцов.
Доступные коммуникации, габаритные и интерфейсные ограничения.
Требования к автоматизации, документации, запуску, обучению и сервису.

Если часть параметров ещё не определена, начнём с назначения процесса и критериев результата. Фотография установки, схема вакуумного тракта или описание текущего эксперимента помогут сделать обсуждение предметным.

Как посетить «Электронику России — 2026»

Выставка пройдёт в МВЦ «Крокус Экспо», павильон 2, зал 11. Ближайшая станция метро — «Мякинино». Заранее зарегистрируйтесь и получите электронный билет на сайте организатора; актуальные условия посещения указаны на странице билетов.

Время работы для посетителей

24 ноября, вторник: 10:00–18:00
25 ноября, среда: 10:00–18:00
26 ноября, четверг: 10:00–16:00

Регистрация и программа

Помимо экспозиции, в течение трёх дней предусмотрена деловая программа. Планируйте посещение с учётом интересующих вас мероприятий и времени для технического разговора.

Получить электронный билет Деловая программа

Обсудим вашу задачу на выставке

Планируете установку напыления, исследовательский реактор или модернизацию оборудования? Направьте краткое описание процесса и исходные требования. Мы сможем заранее ознакомиться с задачей и обсудить подходящую конфигурацию и объём инженерной работы на встрече.

info@cryosystems.ru Контакты ГК «Криосистемы»