Система вакуумной откачки, разработанная и смонтированная сотрудниками ГК Криосистемы, обеспечивает выход установки полезным объемом 40 м3 с атмосферного на рабочее давление (1х10-4 Торр) менее чем за 20 минут.

Форвакуумная система откачки камеры выполнена на базе безмасляных винтовых насосов:

• Насос форвакуумный винтовой Hanbell PD3012 Ду=200 мм, производительность 50 000 л/мин, производство – Тайвань.
• Насос вакуумный Рутса Kashiyama MU300, производительность 5 000 л/мин производство – Япония.
• Насос вакуумный спиральный Anest Iwata ISP-90, производительность 90 л/мин производство – Япония.

Высоковакуумная система откачки камеры выполнена на базе турбомолекулярных насосов и криогенного насоса с суммарной производительностью, обеспечивающей требуемое время откачки объема вакуумной камеры в соответствии с заданием Заказчика.

• Насос турбомолекулярный Shimadzu TMP-3304-LM Ду=320 мм, производительность по азоту 3 200 л/с, производство – Япония.
• Насос криогенный CTI Cryogenics CryoTorr-400 Ду=400 мм, производительность по воде 16 000 л/с, производство – США.

Вакуумная система обеспечивает откачку воздуха и поддержание рабочего давления в камере в во время технологического процесса. Все вакуумпроводы выполнены из нержавеющей стали.

В проекте использована вакуумная коммутационные арматура и производства компании Highlight Tech Corp (HTC):

• клапаны угловые с пневмоприводом Ду200мм AVBS-ISO200-P2 и др.;
• затворы с пневмоприводом Ду320мм GVBS-SS-ISO320-P;
• вакуумные адаптеры и фитинги ISO400, ISO320, ISO200, ISO63, ISO-KF 40 и др., а так же затвор Ду 400мм производства компании GNB G(ISO400)PSOP (Англия).

Производитель: Ионный Имплантер IMC-200 компании IBS (France)

Спецификация

Газовые линии:

• Линия 1 : (HP) –Neutral
• Линия 2 :(HP) – BF3
• Линия 3 : (HP) – Ar
• Линия 4 : (HP) – N2

Источники:

• 2 x источника ионов типа Freeman

Диапазон энергий:

• 30 кеВ – 200 кеВ для однозарядных ионов

Загрузка:

• Ручного типа (4 пластины на цикл откачки)
• Пластины от 50 до 150 мм

• вакуумная камера с термостолом и комплектующие производства HTC (Тайвань);
• переходная плита для размещения образцов HTC (Тайвань);
• турбомолекулярные насосы Shimadzu (Япония);
• спиральные форвакуумные насосы Anest Iwata (Япония);
• термостат Huber (Германия);
• автоматизированная система управления на базе ПЛК Siemens;
• рама установки производства ГК «Криосистемы».

• габариты камеры: диаметр 1500мм, длина 1500мм;
• размер термостола: 900х900 мм;
• предельное остаточное давление – 10-6 Торр;
• температурный диапазон на термостоле – от – 50 до +70 0 С;
• равномерность температуры по поверхности термостола – ±1 ˚С (во всем диапазоне рабочих температур);
• точность поддержания температуры на поверхности термостола: ± 2 ˚С;
• время непрерывного испытания: более 256 часов;
• установка оснащена системой точного поддержания давления в камере, системой терморегулирования.

Термостол и переходная плита для размещения образцов произведены компанией HTC одновременно с вакуумной камерой, что исключает возможность любых несоответствий, которые могут происходить при производстве камеры за рубежом, а термостола и плиты –в России. Компания HTC имеет большие производственные возможности, и термостолы HTC отличаются высоким качеством и точностью исполнения, что позволяет гарантированно достичь нужных температурных параметров на термостоле, с высокой точностью.

ТВУ укомплектована надежным оборудованием ведущих мировых производителей. В процессе проработки проекта наши инженеры согласовывали и учитывали технические нюансы, требования и пожелания Заказчика. Установка разработана в индивидуальном порядке по ТЗ и максимально адаптирована под конкретные задачи.

Установка изготовлена израильской компанией VST, имеет в составе электронно-лучевой испаритель на 6 карманов, ионную пушку и специальный подложкодержатель с возможностью охлаждения образцов до -30oС и поворотом образца на угол ±90o по отношению к источнику. Откачка полностью сухая и состоит из криогенного насоса и спирального насоса компании Anest Iwata.

В состав комплекса входят: установка пульсационно – лазерного осаждения с 2я каналами ввода излучения, магнетроном., RHEED пушкой, установка атомно-слоевого осаждения, между ними смонтирована установка спектроскопии вторичных ионов. Образец после загрузки в шлюз может быть перемещен в ростовую камеру, и затем нанесенный слой исследован на установке SIMS. При интеграции были решены задачи по предотвращению загрязнения SIMS при транзите образца и исследовании слоев наносимых в ALD.

Задача Заказчика:

Заказчик создал источник плазмы и ему требовалось проанализировать наличие и момент появления высокоэнергетичных ионов из источника.
Для нас ставилась задача создания времяпролетного масс – спектрометра для определения относительных интенсивностей положительно заряженных ионов исходящих из источника плазмы в диапазоне масс 1-6 a.e.m.
Второй задачей было измерение энергетического распределения этих ионов.
Третья задача – наличие источника ударной электронной ионизации на входе спектрометра для характеризации нейтральных газов в источнике плазмы.

Решение, предложенное Заказчику:

Созданный масс-спектрометр основан на «ортогональной экстракции ионов» при использовании стандартного рефлектрона, дизайн выполнен для сверх-высоковакуумного применения с фланцами типа CF.

Схема прибора:

Установка изготовлена английской компанией Moorfield, имеет в составе электронно-лучевой испаритель на 6 карманов, специальный подложкодержатель планетарного типа.

Заказчик получил в пользование установку травления ионным пучком английской компании Nordiko.Установка может работать с пластинами до 150 мм в диаметре, имеет загрузочную камеру и водоохлаждаемый столик с опциями как вращения образцов вокруг своей оси, так и поворота самого столика на угол по отношению к ионному пучку.

Откачка системы полностью сухая и состоит из
турбомолекулярного насоса Shimadzu на магнитной
подвеске и сухого насоса японской компании Kashiyama.

Заказчик получил в свое пользование CVD-установку для синтеза графена модели EasyTube 101 от компании CVD Equipment Corp (Firstnano).