Каталог Cryosystems
Лазерные и спектральные эллипсометры MUL, рефлектометры и установки контроля эпитаксиальных структур. Выбор определяется материалом плёнки и способом измерения.
Измерительно-аналитический комплекс фотолюминесцентной характеризации полупроводниковых структур
Характеристики и описание →Автоматический лазерный эллипсометр с фиксированной длиной волны 632.8 нм
Характеристики и описание →Ручной лазерный эллипсометр с фиксированной длиной волны 632.8 нм
Характеристики и описание →Автоматизированное измерение спектрального коэффициента отражения и толщины пленок в видимом и ближнем инфракрасном диапазоне с функцией картирования поверхности.
Характеристики и описание →Измерение спектрального коэффициента отражения и толщины пленок в видимом и ближнем инфракрасном диапазоне для оперативного точечного контроля
Характеристики и описание →Спектральный диапазон 350 – 1050 нм. Автоматическая версия. Опции для 193 нм, 245 нм и 1650 нм.
Характеристики и описание →Спектральный диапазон 350 – 1050 нм. Ручная версия. Опции для 193 нм, 245 нм.
Характеристики и описание →Укажите материал и размеры образца, диапазон высот, измеряемые свойства и необходимость автоматического сканирования.
