Магнетронное напыление

Платформа PicoVAC mini

Настольная установка магнетронного напыления

Ключевые параметры

Скорость откачки: Не менее 4 м³/ч
Мощность источника питания: 40 Вт
Камера: Из нержавеющей стали, диаметр 100 мм, порт быстрого доступа 100 мм, смотровое окно
Обработка пластин: Поштучная, диаметр до 76 мм

Технические характеристики

Камера	Из нержавеющей стали, диаметр 100 мм, порт быстрого доступа 100 мм, смотровое окно
Обработка пластин	Поштучная, диаметр до 76 мм
Тип магнетрона	Уравновешенный магнетрон постоянного тока
Охлаждение магнетрона	Воздушное
Напыляемые материалы	Au, Pt, Ag, Cu, Au/Pd, Ni
Мощность источника питания	40 Вт
Диаметр мишени магнетрона	38-40 мм, толщина 0,2-2 мм
Расстояние от образца до мишени	Варьируемое
Скорости напыления	0,5-6 Å/сек
Откачка	Роторный или спиральный насос
Скорость откачки	Не менее 4 м³/ч
Давление в камере	5х10⁻² – 5 х10⁻¹ мм.рт.ст., поток регулируется ручным прецизионным натекателем
Количество газовых каналов	1
Рекомендованный газ	Ar, Ar/Не
Тип измерителя давления	Термопарный
Управление	Ручное
Опции	Узел ионной обработки образцов для модификации/активации/смачиваемости поверхности; Водяное охлаждение магнетрона; Установка турбомолекулярного насоса

Технология нанесения и устройство установки

Малогабаритная настольная установка магнетронного напыления PicoVAC mini предназначена для нанесения металлических и углеродсодержащих тонких слоев методом магнетронного распыления на образцы. Система предназначена для напыления металлов на поверхность образцов, в том числе для пробоподготовки образцов для электронной микроскопии (РЭМ пробоподготовка), с целью минимизации накопления статических электрических зарядов во время исследований.

Установка напыления PicoVAC mini может быть использована в исследовательских целях, а также в образовательном процессе в рамках курсов по физике плазмы и вакуумной технике.

Платформа PicoVAC mini — иллюстрация оборудования и измерений

Камера установки магнетронного напыления

Принцип работы PicoVAC mini

Принцип работы PicoVac mini основан на магнетронном распылении (нанесение тонких слоев материалов на поверхность образцов). Процесс напыления в PicoVAC mini происходит в несколько этапов:

Создание вакуума: образец помещается в вакуумную камеру, где создается высокий вакуум для предотвращения загрязнения и обеспечения чистоты процесса.
Ионизация газа: в камеру вводится инертный газ (обычно аргон), который ионизируется под действием высокого напряжения, создавая плазму.
Магнетронное распыление: плазма направляется на мишень (материал, который будет наноситься на образец). Под действием магнитного поля ионы газа бомбардируют мишень, выбивая из нее атомы.
Нанесение слоя: выбитые атомы мишени осаждаются на поверхность образца, образуя тонкий слой. Процесс происходит в условиях высокого вакуума, что обеспечивает высокую чистоту и однородность наносимого слоя.
Минимизация статических зарядов: в процессе нанесения слоя установка минимизирует накопление статических электрических зарядов, что особенно важно для электронной микроскопии, где статические заряды могут искажать результаты исследований.

Основные преимущества PicoVAC mini

Компактность и удобство: установка занимает минимум места и легко интегрируется в любую лабораторию или учебное заведение.
Высокая точность: обеспечивает нанесение тонких слоев с высокой степенью точности и однородности.
Многофункциональность: подходит для различных типов образцов и материалов, включая металлы и углеродсодержащие соединения.
Эффективность: минимизирует накопление статических зарядов, что особенно важно для электронной микроскопии.
Образовательные возможности: подходит для использования в образовательном процессе, особенно в курсах по физике плазмы и вакуумной технике.

Опции установки напыления PicoVAC mini

Узел ионной обработки образцов позволяет модифицировать, активировать и улучшать смачиваемость поверхности образцов, что улучшает их характеристики и сцепление с наносимыми материалами.
Водяное охлаждение магнетрона обеспечивает более эффективное охлаждение магнетрона, особенно при высоких нагрузках, что повышает стабильность работы и качество напыления.
Установка турбомолекулярного насоса позволяет достигать более высокого уровня вакуума, что улучшает качество напыления и минимизирует загрязнение образцов.