Лазерная литография

Лазерный литограф Litho MaskLess

Безмасковая лазерная литография

Лазерный литограф Litho MaskLess

Ключевые параметры

Генератор шаблонов
0,65″ DMD (1920×1080 пикс.)
Световой поток
4 Вт
Длина волны
365 / 385 / 405 нм
Интенсивность
до 1,3 Вт/см²

Технические характеристики

Генератор шаблонов 0,65″ DMD (1920×1080 пикс.)
Световой поток 4 Вт
Длина волны 365 / 385 / 405 нм
Интенсивность до 1,3 Вт/см²
Равномерность экспозиции >90%
Камера CMOS-сенсор 1/1,8″
Интерфейсы USB 2.0, HDMI
Питание 110–220 В, 60 Вт
Поддерживаемые ОС Windows 10/11

Формирование рисунка и работа с подложкой

Лазерный литограф Litho MaskLess (Ю.Корея) – это система безмасковой литографии, использующая технологию динамических масок на основе DMD зеркал (Digital Mirror Device) диагональю 0,65 дюйма производства Texas Instruments. Литограф Litho MaskLess интегрирован с оптическим микроскопом, прибор поддерживает работу с различными типами фоторезистов и подложек. Он позволяет создавать 2D- и 2.5D-структуры с микронным разрешением без применения традиционных жестких масок.

Основные преимущества

  • Высокое пространственное разрешение: до 560 нм.

  • Мощный источник света: интенсивное УФ-излучение.

  • Доступные длины волн литографии: 365 нм, 385 нм, 405 нм.

  • Гибкость экспонирования: бинарные или градационные шаблоны.

  • Поддержка формата PNG: загрузка изображений напрямую.

  • Точное позиционирование: система EasyAlign с камерой для совмещения шаблонов.

  • Совместимость с микроскопами: микроскопы Olympus, Nikon, Thorlabs.

  • ИИ-оптимизация: технология AIUniBeam для равномерного распределения пучка.

Технология AIUniBeam

Искусственный интеллект анализирует распределение интенсивности пучка литографа и корректирует яркость каждого пикселя в реальном времени, обеспечивая равномерность экспонирования свыше 90%.

Лазерный литограф Litho MaskLess — иллюстрация оборудования и измерений
Лазерный литограф Litho MaskLess — иллюстрация оборудования и измерений
 

Без корректировки

 

С технологией AIUniBeam

Система EasyALIGN

Программное обеспечение литографа накладывает виртуальный шаблон на изображение с камеры микроскопа, что позволяет точно совмещать структуры и моделировать результат до экспонирования.

Лазерный литограф Litho MaskLess — иллюстрация оборудования и измерений

Схема устройства

Лазерный литограф Litho MaskLess — иллюстрация оборудования и измерений

Совместимые микроскопы

  • Olympus: серия BX

  • Nikon: серия Eclipse

  • Thorlabs: серия Cerna

Максимальные размеры области при проведении литографии в зависимости от объектива микроскопа 

Объектив 5x 10x 20x 50x 100x
Числовая апертура (NA) 0,15 0,3 0,4 0,6 0,8
Размер области (мкм) 2903×1633 1452×816 726×408 290×163 145×82
Минимальный размер элемента (мкм)* 3,29 1,65 1,24 0,82 0,62

Лазерный литограф Litho Maskless представлен в демонстрационной лаборатории нашей компании. Вы можете ознакомиться с работой лазерного безмаскового литографа в действии и оценить его ключевые преимущества на практике. Оставьте заявку и мы свяжемся с Вами!

Другие разделы и оборудование

Запросить КП

В запросе укажите Лазерный литограф Litho MaskLess. Укажите материал и размер подложки, минимальный элемент рисунка, резист и требования к совмещению слоёв.

Cookie-файлы
Настройка cookie-файлов
Детальная информация о целях обработки данных и поставщиках, которые мы используем на наших сайтах
Аналитические Cookie-файлы Отключить все
Технические Cookie-файлы
Другие Cookie-файлы
Мы используем файлы Cookie для улучшения работы, персонализации и повышения удобства пользования нашим сайтом. Продолжая посещать сайт, вы соглашаетесь на использование нами файлов Cookie. Подробнее о нашей политике в отношении Cookie.
Понятно Подробнее
Cookies