Для наноимпринтной литографии представлены PDMS-шаблоны, композитные PDMS-шаблоны и металлические шаблоны из никеля.
Мягкий композитный (HNSL) шаблон применяется для работы с твердыми материалами, такими как кремний и кварц. Никелевый металлический шаблон применяется для процесса прямого горячего тиснения термопластичных образцов, таких как PMMA/PET и других жестких или гибких полимерных материалов.
Процесс литографии с использованием мягких HNSL и DTUCN-композитов, а также процесс литографии с использованием двойного переноса при облучении образца ультрафиолетом, подходят для изогнутых и других сложных поверхностей.
Расходные материалы для наноимпринт литографии
- Клей для горячей наноимпринт литографии – температура 120 ℃, разрешение менее 10 нм;
- Кислородостойкий, стойкий к травлению, УФ-отверждаемый адгезив: разрешение оттиска <5 нм, аспектное отношения при кислородном травлении > 40;
- Быстрая репликационная литография: УФ-отверждение, разрешение <10 нм, быстрое копирование шаблона
- Материал слоя переноса (снятия)
