Криогенные установки Pride Cryogenics

Установка очистки гелия

Криогенная установка очистки гелия использует жидкий азот в качестве источника холода при рабочей температуре 77 К. Исполнения с несколькими переключаемыми колоннами обеспечивают автоматическую непрерывную очистку сырьевого гелия от примесей.

Для более глубокой очистки производитель предусматривает дополнительные низкотемпературные процессы: вымораживание неона при 6 К, разделение гелия и водорода при 15 К и удаление неона адсорбцией при 30 К.

Все системы для промышленных газов

Основные технические параметры

Параметры общей конфигурации по таблице технических характеристик производителя.

5–1000 Нм³/ч

Производительность по газу по таблице характеристик

≥99,999 %

Чистота товарного гелия; для отдельных конфигураций указано ≥99,9999 %

≥98 %

Коэффициент извлечения общей установки

24 ч

Непрерывная работа за счёт переключения колонн

Принцип работы и особенности

Установка рассчитана на очистку сырьевого гелия в автоматическом режиме и может адаптироваться к различным расходам и чистоте входящего газа.

Базовый процесс очистки проводится при 77 К с использованием жидкого азота как источника холода. Оборудование может включать один или несколько криогенных блоков, которые переключаются по мере необходимости, поддерживая непрерывный процесс.

В составе системы предусмотрен узел рекуперации газа сброса давления. По данным производителя, он повышает степень извлечения и эффективность использования гелия при крупнотоннажном промышленном производстве.

Области применения

Извлечение гелия из BOG

Очистка гелия, содержащегося в отпарном газе BOG, с последующей подготовкой продукта требуемой чистоты.

Промышленные и испытательные объекты

Заводы сжижения природного газа.
Криогенные испытательные стенды.
Производственные системы очистки сырьевого гелия.

Общие технические характеристики

Характеристики относятся к общей конфигурации установки. Для специализированных исполнений отдельные параметры отличаются.

Параметры установки очистки гелия
Производительность по газу	5–1000 Нм³/ч
Рабочая температура базового процесса	77 К
Рабочее давление	1,8–3 МПа
Обрабатываемый газ	Сырьевой (неочищенный) гелий
Примесные компоненты	Азот, метан, кислород, неон и другие примеси
Расход жидкого азота	≈15 л/ч для общей конфигурации
Режим работы	Полностью автоматический
Чистота товарного газа	≥99,999 % или ≥99,9999 % в зависимости от конфигурации
Коэффициент извлечения	≥98 % для общей установки
Габариты скида	4000 × 2800 × 3500 мм
Масса технологического оборудования	≈13 т

Чистота продукта: в обзорном описании производитель указывает чистоту гелия ≥99,999 % и соответствие этому уровню требованиям GB/T 4844-2011. В таблице характеристик дополнительно приведено исполнение с чистотой ≥99,9999 %.

Примеры технологических конфигураций

В зависимости от состава исходного газа базовая очистка при 77 К может дополняться отдельными глубококриогенными стадиями.

Установка очистки гелия криогенной адсорбцией при 77 К — Очистка гелия криогенной адсорбцией при 77 К

Очистка гелия при 77 К с системой вымораживания неона при 6 К — Очистка при 77 К + вымораживание неона при 6 К

Очистка гелия при 77 К с глубококриогенным разделением гелия и водорода при 15 К — Очистка при 77 К + конденсационное разделение гелия и водорода при 15 К

Очистка гелия при 77 К с удалением неона адсорбцией при 30 К — Очистка при 77 К + удаление неона глубококриогенной адсорбцией при 30 К

Типовые исполнения установки

В каталоге отдельно приведены два исполнения очистки при 77 К и конфигурация для удаления неона при 30 К.

Установка очистки гелия производительностью 10–100 Нм³/ч

Две переключаемые колонны

Исполнение 10–100 Нм³/ч

Производительность: 10–100 Нм³/ч
Температура: 77 К
Удаляемые примеси: Азот, метан, кислород
Режим: Автоматическое переключение двух колонн
Давление: 1,6–3 МПа
Извлечение: ≥95 %
Габариты скида: 4000 × 2800 × 3500 мм

Установка очистки гелия производительностью 50–500 Нм³/ч

Три переключаемые колонны

Исполнение 50–500 Нм³/ч

Производительность: 50–500 Нм³/ч
Температура: 77 К
Удаляемые примеси: Азот, метан, кислород
Режим: Автоматическое переключение трёх колонн
Давление: 1,6–3 МПа
Извлечение: ≥95 %
Габариты скида: 4000 × 2800 × 3500 мм

Установка очистки гелия для удаления неона при 30 К

Глубококриогенная очистка

Исполнение с удалением неона

Производительность: 15–120 Нм³/ч
Температура: 30 К
Удаляемая примесь: Неон
Режим: Автоматическое переключение двух колонн
Давление: 1,2–3 МПа
Извлечение: ≥98 %
Габариты скида: 4000 × 2800 × 3500 мм

Что указать для подбора установки

Конфигурация зависит от производительности, состава сырьевого гелия, требуемой чистоты и условий интеграции на объекте.

Параметры процесса

Требуемый расход сырьевого гелия.
Давление и температура газа на входе.
Состав и концентрации примесей.
Требуемая чистота товарного гелия.
Необходимость удаления неона или водорода.

Условия эксплуатации

Требуемый режим и продолжительность работы.
Наличие инфраструктуры жидкого азота.
Ограничения по размещению оборудования.
Точки подключения к существующей газовой системе.

Другие системы Pride Cryogenics для очистки, рекуперации и обработки промышленных газов.

Криогенное оборудование для промышленных газов Очистка гелий-неоновой смеси Очистка и рекуперация гелия

Подобрать установку очистки гелия

Передайте расход, давление, температуру и состав сырьевого гелия, требуемую чистоту продукта, режим работы и условия размещения. Специалисты ГК «Криосистемы» помогут определить подходящую технологическую конфигурацию.