Оставьте заявку на подбор оборудования
Оставьте заявку — мы подготовим индивидуальное коммерческое предложение с учётом ваших технических требований, сроков и бюджета.
Мы работаем с комплексными и нестандартными задачами для промышленности, науки и высокотехнологичных отраслей.
Инженер компании внимательно изучит вашу заявку, свяжется для уточнения деталей, проведёт предварительную консультацию и, при необходимости, поможет сформулировать техническое задание.
Наши эксперты обеспечат:
- подбор оптимального оборудования из ассортимента собственного и партнёрского производства;
- расчёт стоимости, сроков поставки и вариантов комплектации;
- оперативную подготовку индивидуального предложения для вашего проекта;
- сопровождение на всех этапах — от консультации до пусконаладочных работ и сервисного обслуживания.
Тонкоплёночные технологии — прецизионные установки под ключ от ГК «Криосистем»
Наряду с технологическим, аналитическим и оборудованием обеспечения производства мы предлагаем отдельные компоненты, блоки, элементы и составные части поставляемого оборудования и систем, и большой ассортимент различных материалов, например, чистых материалов для испарения и распыления в вакууме, ленточных нагревателей вакуумных камер и многое другое.
Оборудование для вакуумных и плазменных технологических процессов
Инженерный подход и сервис
Все установки спроектированы на базе модульной архитектуры, с возможностью интеграции измерительных модулей, систем мониторинга параметров плазмы и температурных контроллеров. В «Криосистемах» реализуется полный цикл: от разработки и подбора конфигурации — до запуска, обучения и гарантийного обслуживания.
Нормативы и стандарты
Основные направления
- Осаждение в вакууме (PVD) — методы испарения (термическое, электронно-лучевое), магнетронное распыление для нанесения тонких металлических и диэлектрических покрытий.
- Газофазное осаждение (CVD) — химические методы осаждения из газовой фазы, включая LPCVD, PECVD и ALD, с высокой воспроизводимостью и однородностью.
- Травление в плазме (RIE, ICP-RIE) — высокоанизотропное плазменное травление для структурирования фотошаблонов и подложек с микронной и субмикронной точностью.
- Травление ионным пучком — физическое удаление материала с поверхности при помощи направленного ионного потока, применимо в оптике и микросистемной технике.
- Ионная имплантация — модификация свойств полупроводниковых подложек за счёт внедрения ионов с заданной энергией и дозой.
- Лазерная абляция — селективное удаление или нанесение материала под воздействием импульсного лазерного излучения.
- Очистка поверхностей — предобработка и удаление загрязнений с микроструктур при помощи плазмы или ионных потоков.
Наши преимущества — ваш технологический результат
